武漢快速退火爐的使用注意事項有哪些？

發(fā)布時間：2022-10-14

快速退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的 效果而設計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜 ，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶 圓襯底。它可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，或者可以自己處理。它是由專門為加熱半導體晶片而設計的設備完 成的。它是節(jié)能型周期式作業(yè)爐，超節(jié)能結構，采用纖維結構，節(jié)電60%。熱處理爐分為退火爐、淬火爐、回火爐、正火爐、調(diào)質(zhì)爐，主要用于大型碳鋼、合金鋼零件的退火；表面淬火件回 火；焊件應力退火、時效等熱處理工藝。加熱方式有電加熱、燃油、燃氣、燃煤、熱風循環(huán)。它是一種新型換 熱設備。

快速退火爐能夠細化晶粒，改善組織，提高工件的力學性能。

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