北京鍍膜機用高純度二氧化硅濺射靶材供應商Sio2濺射靶材 純度：二氧化硅99.95% ~ 99.9999% 種類：顆粒、毛坯、基片、環形靶、方磚； 特點：

河南濺射靶材公司濺射是一種先進的薄膜材料制備技術, 它利用離子源產生的離子, 在真空中加速聚集成高速離子流, 轟擊固體表面, 離子和固體表面的原子發生動能交換,

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